NISTEP注目科学技術 - 2023_E382
概要
二次元半導体のエレクトロニクス応用。現在のシリコンを基盤とするエレクトロニクスに対して、微細化が期待されている。
キーワード
2次元半導体 / 半導体デバイス / 原子層物質
| ID | 2023_E382 |
|---|---|
| 調査回 | 2023 |
| 注目/兆し | 注目 |
| 所属機関 | 大学 |
| 専門分野 | ナノテクノロジー・材料 |
| 専門度 | 高 |
| 実現時期 | 5年以降10年未満 |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 21 （電気電子工学） |
| 分析データ クラスタ | 27 （理化学/半導体・ナノ・材料） |
研究段階
企業との共同研究が進んでいる段階
インパクト
-
必要な要素
物質作製技術からデバイス作製技術、デバイス動作の検証に至るあらゆる段階に改善の余地があると考えられる。具体的には、結晶の大面積成長技術、電極形成技術、電界効果トランジスタの歩留まり、デバイス特性の再現性の向上。