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NISTEP注目科学技術 - 2023_E373

低次元マテリアル半導体

R5の文科省の戦略目標になっている。低次元物質を用いた半導体デバイスの基盤技術を発展させることが期待されている。

2次元物質半導体は、半導体の微細化をしても移動度が下がらない、またフレキシブルデバイスが可能である、低消費電力が期待できるという点において、注目を集めている。研究段階は、研究室で開発している段階である。

Si半導体の微細化の下限である2nm 付近で半導体を実現できる。また皮膚の上などフレキシブルデバイスでしかできない半導体デバイスが可能である。

低次元物質の高品質、大面積化が必要である。また、デバイスを作るときに低次元物質の積層が必要であるが、積層技術などプロセス技術が必要である。Si 半導体と競合するというより、Si半導体でできない点での可能性を実現することが留意すべき点である。