NISTEP注目科学技術 - 2020_E345

概要
超ワイドギャップ半導体(ダイヤモンド、c-BN、AlNおよびハイブリッド)を用いた超高電圧(高高耐圧・高電流)半導体素子およびそのパッケージング、モジュール化技術。それらを用いた(スマート)送電系統構築。
キーワード
2020年調査にはこの項目はありません。
ID 2020_E345
調査回 2020
注目/兆し 2020
※2020年調査にはこの項目はありません。区別のため、便宜上 「2020」 としています。
所属機関 企業
専門分野 ナノテクノロジー・材料
専門度 -
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実現時期 10年以降
分析データ 推定科研費審査区分(中区分) 21 (電気電子工学)
分析データ クラスタ 27 (理化学/半導体・ナノ・材料)
研究段階
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インパクト
2020年調査にはこの項目はありません。
必要な要素
基板大口径化、接合技術、結晶成長技術、およびデバイス構造など。