NISTEP注目科学技術 - 2020_E304
概要
電場を印可することで低温で触媒反応を進める技術。本技術は早稲田大学・関根泰教授の研究グループによって世界にさきがけて達成した日本独自の技術である。これまでは高温の反応場を必要としていた触媒反応をエネルギー消費の少ない電場印加により低温反応を実現した。
キーワード
2020年調査にはこの項目はありません。
| ID | 2020_E304 |
|---|---|
| 調査回 | 2020 |
| 注目/兆し |
2020 ※2020年調査にはこの項目はありません。区別のため、便宜上 「2020」 としています。 |
| 所属機関 | 大学 |
| 専門分野 | ナノテクノロジー・材料 |
| 専門度 | - 2020年調査にはこの項目はありません。 |
| 実現時期 | 10年未満 |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 27 （化学工学） |
| 分析データ クラスタ | 11 （理化学/エネルギー・脱炭素） |
研究段階
2020年調査にはこの項目はありません。
インパクト
2020年調査にはこの項目はありません。
必要な要素
幅広い応用利用のためには，電場印加により反応場がどの様に変化し反応に寄与しているかの原理解明が必要である。