NISTEP注目科学技術 - 2020_E231

概要
レーザーSNMSと呼ばれる表面分析法。二次イオン質量分析(SIMS)で発生する二次イオンは、スパッタされた粒子の1%未満であるが、スパッタされた粒子にレーザーを照射することによって、イオン化率をあげることにより、感度だけではなく定量性の向上など分析において重要な課題を解決することができる。SIMSのうち、特にTOF-SIMSは分子の3次元分布がサブミクロンで得られる有力な手法だが、レーザーSNMSが実現すれば、TOF-SIMSの課題の多くが解決し、医療から材料・デバイス開発まで多くの分野で欠かせない計測手法の一つとなる。
キーワード
2020年調査にはこの項目はありません。
ID 2020_E231
調査回 2020
注目/兆し 2020
※2020年調査にはこの項目はありません。区別のため、便宜上 「2020」 としています。
所属機関 大学
専門分野 その他
専門度 -
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実現時期 10年未満
分析データ 推定科研費審査区分(中区分) 15 (素粒子、原子核、宇宙物理学)
分析データ クラスタ 37 (電磁波・光学・レーザー・光半導体)
研究段階
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インパクト
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必要な要素
個々の技術は、実現可能な段階まで進んでいる。関連技術の全体を見通して、実現に向けて推進する人材が足りない。