NISTEP注目科学技術 - 2020_E151
概要
半導体微細加工技術。特に10nm以下のプロセス。
キーワード
2020年調査にはこの項目はありません。
| ID | 2020_E151 |
|---|---|
| 調査回 | 2020 |
| 注目/兆し |
2020 ※2020年調査にはこの項目はありません。区別のため、便宜上 「2020」 としています。 |
| 所属機関 | 公的機関 |
| 専門分野 | ナノテクノロジー・材料 |
| 専門度 | - 2020年調査にはこの項目はありません。 |
| 実現時期 | 10年未満 |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 18 （材料力学、生産工学、設計工学） |
| 分析データ クラスタ | 27 （理化学/半導体・ナノ・材料） |
研究段階
2020年調査にはこの項目はありません。
インパクト
2020年調査にはこの項目はありません。
必要な要素
現行の半導体加工技術ではすでに10nmを大きく下回るところまで実用化されているが、実際にはどこまでが達成されているかが不明である。5nm以下のプロセスが本当に実現されているのであれば、現実的に他の代替手法は不要であり、研究開発をSiに特化すべきである。そうでない場合には、並行して代替手法を探索することになる。