低融点金属液相を反応場とした半導体気相成長プロセスの開拓
詳細情報
| 科研費研究課題/領域番号 | 23K26432 [ KAKENで見る ] |
|---|---|
| 種目 | 基盤研究(B) |
| 採択年度 | 2023 |
| 代表者氏名 | 野瀬 嘉太郎 |
| 採択時の代表者所属 | 京都大学 工学研究科 准教授 |
| 代表者の科研費研究者番号 | 00375106 |
| 科研費審査区分（中区分） | 26 （材料工学） |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 26 （材料工学） |
| 分析データ クラスタ | 11 （理化学/エネルギー・脱炭素） |