大気圧プラズマCVD法によるシリカ膜のサブナノ細孔構造制御と超薄膜製膜技術の確立
詳細情報
| 科研費研究課題/領域番号 | 23K23119 [ KAKENで見る ] |
|---|---|
| 種目 | 基盤研究(B) |
| 採択年度 | 2022 |
| 代表者氏名 | 長澤 寛規 |
| 採択時の代表者所属 | 広島大学 先進理工系科学研究科(工) 助教 |
| 代表者の科研費研究者番号 | 30633937 |
| 科研費審査区分（中区分） | 27 （化学工学） |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 27 （化学工学） |
| 分析データ クラスタ | 27 （理化学/半導体・ナノ・材料） |