先進的電子デバイスにおける劣化のサイエンス
詳細情報
| 科研費研究課題/領域番号 | 23K22789 [ KAKENで見る ] |
|---|---|
| 種目 | 基盤研究(B) |
| 採択年度 | 2022 |
| 代表者氏名 | 間中 孝彰 |
| 採択時の代表者所属 | 東京工業大学 工学院 教授 |
| 代表者の科研費研究者番号 | 20323800 |
| 科研費審査区分（中区分） | 21 （電気電子工学） |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 21 （電気電子工学） |
| 分析データ クラスタ | 54 （理化学/分子化学） |
| 科研費研究課題/領域番号 | 23K22789 [ KAKENで見る ] |
|---|---|
| 種目 | 基盤研究(B) |
| 採択年度 | 2022 |
| 代表者氏名 | 間中 孝彰 |
| 採択時の代表者所属 | 東京工業大学 工学院 教授 |
| 代表者の科研費研究者番号 | 20323800 |
| 科研費審査区分（中区分） | 21 （電気電子工学） |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 21 （電気電子工学） |
| 分析データ クラスタ | 54 （理化学/分子化学） |