ナノ構造を用いた高自由度歪印加による高性能熱電薄膜の創製
詳細情報
| 科研費研究課題/領域番号 | 24K17613 [ KAKENで見る ] |
|---|---|
| 種目 | 若手研究 |
| 採択年度 | 2024 |
| 代表者氏名 | 石部 貴史 |
| 採択時の代表者所属 | 大阪大学 大学院基礎工学研究科 助教 |
| 代表者の科研費研究者番号 | 50837359 |
| 科研費審査区分（中区分） | 29 （応用物理物性） |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 26 （材料工学） |
| 分析データ クラスタ | 27 （理化学/半導体・ナノ・材料） |