微細加工と組成制御によるSiGe/Si面直界面を有する熱電薄膜構造の開発
詳細情報
| 科研費研究課題/領域番号 | 24K17513 [ KAKENで見る ] |
|---|---|
| 種目 | 若手研究 |
| 採択年度 | 2024 |
| 代表者氏名 | 谷口 達彦 |
| 採択時の代表者所属 | 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター 研究開発本部物理応用技術部電気技術グループ 研究員 |
| 代表者の科研費研究者番号 | 60910536 |
| 科研費審査区分（中区分） | 26 （材料工学） |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 26 （材料工学） |
| 分析データ クラスタ | 27 （理化学/半導体・ナノ・材料） |