軟X線高強度レーザー電場中での共有結合性希ガス分子の形成
詳細情報
| 科研費研究課題/領域番号 | 24K15609 [ KAKENで見る ] |
|---|---|
| 種目 | 基盤研究(C) |
| 採択年度 | 2024 |
| 代表者氏名 | 大和田 成起 |
| 採択時の代表者所属 | 公益財団法人高輝度光科学研究センター XFEL利用研究推進室 主幹研究員 |
| 代表者の科研費研究者番号 | 90725962 |
| 科研費審査区分（中区分） | 15 （素粒子、原子核、宇宙物理学） |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 14 （プラズマ学） |
| 分析データ クラスタ | 37 （電磁波・光学・レーザー・光半導体） |