プラズマプロセスによる膜形成の一般則の統合研究
詳細情報
| 科研費研究課題/領域番号 | 24H00205 [ KAKENで見る ] |
|---|---|
| 種目 | 基盤研究(A) |
| 採択年度 | 2024 |
| 代表者氏名 | 白谷 正治 |
| 採択時の代表者所属 | 九州大学 システム情報科学研究院 教授 |
| 代表者の科研費研究者番号 | 90206293 |
| 科研費審査区分（中区分） | 14 （プラズマ学） |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 14 （プラズマ学） |
| 分析データ クラスタ | 27 （理化学/半導体・ナノ・材料） |