薄膜転写プリント技術による精密分散制御と近/中赤外光コム発生
詳細情報
| 科研費研究課題/領域番号 | 23K03982 [ KAKENで見る ] |
|---|---|
| 種目 | 基盤研究(C) |
| 採択年度 | 2023 |
| 代表者氏名 | 高 磊 |
| 採択時の代表者所属 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 エレクトロニクス・製造領域 主任研究員 |
| 代表者の科研費研究者番号 | 40650429 |
| 科研費審査区分（中区分） | 21 （電気電子工学） |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 21 （電気電子工学） |
| 分析データ クラスタ | 37 （電磁波・光学・レーザー・光半導体） |