高緻密性薄膜へのイオン照射による高温超伝導材料の最適組織設計
詳細情報
| 科研費研究課題/領域番号 | 23K04378 [ KAKENで見る ] |
|---|---|
| 種目 | 基盤研究(C) |
| 採択年度 | 2023 |
| 代表者氏名 | 松井 浩明 |
| 採択時の代表者所属 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 エレクトロニクス・製造領域 主任研究員 |
| 代表者の科研費研究者番号 | 50431490 |
| 科研費審査区分（中区分） | 26 （材料工学） |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 26 （材料工学） |
| 分析データ クラスタ | 40 （材料工学） |