Si/Al界面のナノスケール傾斜制御と高効率スピン流生成に関する研究
詳細情報
| 科研費研究課題/領域番号 | 22K20359 [ KAKENで見る ] |
|---|---|
| 種目 | 研究活動スタート支援 |
| 採択年度 | 2022 |
| 代表者氏名 | 洞口 泰輔 |
| 採択時の代表者所属 | 慶應義塾大学 理工学研究科(矢上) 特任助教 |
| 代表者の科研費研究者番号 | 10964744 |
| 科研費審査区分（中区分） | - |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 29 （応用物理物性） |
| 分析データ クラスタ | 48 （スピントロニクス） |