直観的な分子修飾を可能にする低反応性C(sp3)-H結合の一工程官能基化法の拡張
詳細情報
| 科研費研究課題/領域番号 | 22K05096 [ KAKENで見る ] |
|---|---|
| 種目 | 基盤研究(C) |
| 採択年度 | 2022 |
| 代表者氏名 | 上條 真 |
| 採択時の代表者所属 | 山口大学 大学院創成科学研究科 准教授 |
| 代表者の科研費研究者番号 | 00359548 |
| 科研費審査区分（中区分） | 33 （有機化学） |
| 分析データ 推定科研費審査区分（中区分） | 33 （有機化学） |
| 分析データ クラスタ | 32 （理化学/反応・触媒） |